Плазменные эмиссионные системы для реализации электронно-ионных лучевых технологий

Абраменко, С. Н.; Антонович, Д. А.; Груздев, В. А.; Залесский, В. Г.; Солдатенко, П. Н.

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://rep.vsu.by/handle/123456789/23574

Заглавие:	Плазменные эмиссионные системы для реализации электронно-ионных лучевых технологий
Авторы:	Абраменко, С. Н. Антонович, Д. А. Груздев, В. А. Залесский, В. Г. Солдатенко, П. Н.
Ключевые слова:	магнитное поле магнитная индукция полей электронно-лучевая сварка остаточная намагниченность термоэлектрические токи
Дата публикации:	2017
Издательство:	Национальный исследовательский университет "МЭИ"
Библиографическое описание:	Абраменко, С. Н. Плазменные эмиссионные системы для реализации электронно-ионных лучевых технологий / С. Н. Абраменко, Д. А. Антонович, В. А. Груздев, В. Г. Залесский [и др.] // Плазменные эмиссионные системы для реализации электронно-ионных лучевых технологий / С. Н. Абраменко, Д. А. Антонович, В. А. Груздев, В. Г. Залесский, П. Н. Солдатенко // Электронно-лучевая сварка и смежные технологии : сб. материалов и докл. Второй междунар. конф., Москва, 14-17 ноября 2017 г. – М. : Издательство МЭИ, 2017. – С. 327–336.
Аннотация:	В работе предложены различные методы компенсации влияния магнитных полей на отклонение электронного пучка от оптической оси пушки в процессе электронно-лучевой сварки. Рассмотренные методы предусматривают контроль отклонения электронного пучка от оптической оси пушки под действием продольной составляющей магнитной индукции полей остаточной намагниченности и токов термоЭДС по рентгеновскому излучению из зоны сварки и введение компенсирующего поля, равного по величине и имеющего обратную направленность. В качестве источников компенсирующего поля используются электромагниты, токоподводы и отклоняющие системы.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса):	https://rep.vsu.by/handle/123456789/23574
ISBN:	978-5-7046-1909-3
Располагается в коллекциях:	Научные публикации (2017)