К вопросу воздействия на обрабатываемые поверхности электронными и ионными пучками

Abstract

Описываются процессы взаимодействия электронных и ионных пучков с обрабатываемой поверхностью, воздействие налетающих частиц на элементы вещества, основные характеристики процессов влияния пучков на поверхность. Рассмотрены зависимости энергетических потерь налетающих частиц от глубины проникновения в обрабатываемое вещество, зависимости коэффициента эмиссии и тормозных способностей от энергии ускоренных частиц. Описано влияние газа и давления на область обрабатываемой поверхности при ионном распылении. Приведены некоторые результаты экспериментальных исследований, полученных для разработанного макета плазменного источника низкоэнергетичных ионно-электронных совмещенных в пространстве пучков. = This article describes the processes of interaction of electron and ion beams with the surface being processed, the impact of incident particles on the elements of matter, and the main characteristics of the processes of beam influence on the surface. The dependences of the energy losses of incident particles on the depth of penetration into the substance being processed, the dependences of the emission coefficient and stopping power on the energy of accelerated particles are considered. The influence of gas and pressure on the area of the surface being processed during ion sputtering is described. Some results of experimental studies obtained for the developed model of a plasma source of low-energy ion-electron beams combined in space are presented.